Le cours se concentre sur l'application pratique de la méthode des éléments finis aux problèmes courants de géotechnique tels que les fondations, excavations et analyses de tunnels

Formation CESAR-LCPC
Public :
Techniciens et ingénieurs en Génie Civil, Géotechnique ou Mécanique. Ingénieurs R&D, chercheurs.

Méthode pédagogique :
exposés, exercices individuels sur ordinateur.

Cours assurés par :
Mme ROURE et M. REMAUD
  formation éléments finis
2 formations sont proposées :
Nous vous proposons aujourd'hui de réserver votre date de session de formation CESAR-LCPC v4 parmi celles proposées ci-dessous :

Session 1 du 18 au 20 novembre 2008 Pour les nouveaux utilisateurs de CESAR-LCPC v 4.0
Détails pratiques
formations INSCRIPTION
Dans un souci de qualité pédagogique, le nombre de participants est volontairement limité à 4 stagiaires par session. Les participants seront retenus par ordre d'inscription.

formations DROITS D'INSCRIPTION
Les droits d'inscription s'élèvent à : 1380 €HT / personne pour les stages sur site itech (3 jours).
Formation sur site client : sur devis.

formations MODALITES DE PAIEMENT
Règlement par chèque à réception de facture.

formations ANNULATION

ITECH : nous nous réservons la possibilité d'annuler le stage et de le reporter à une date ultérieure en cas de participation insuffisante ou de tout événement indépendant de notre volonté.

D'un participant : en cas d'annulation moins de 15 jours avant le début de stage une retenue de 30% sera effectuée. Il est toujours possible de remplacer une personne inscrite.

formations NOTA
Stage entrant dans le cadre de la formation professionnelle. Un certificat de participation au cours sera délivré en fin de stage.

formations LIEU DE LA FORMATION ET HORAIRES
Lieu : Tour Orion 12-16 rue de Vincennes 93100 Montreuil
Horaires:
9h00 à 17h30

formations RENSEIGNEMENTS ET ORGANISATION
Société : ITECH
Adresse :
Tour Orion 12-16 rue de Vincennes 93100 Montreuil
Téléphone :
33 (0) 1 48 70 47 41
Fax :
33 (0) 1 48 59 12 24
Mail :
formations FORMULAIRE D'INSCRIPTION
       
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